Wolframplatte

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Wolframplatte

Entdecken Sie die Welt der Wolframplatten, einer wichtigen Materialklasse, die für ihre außergewöhnlichen Eigenschaften bekannt ist. Wolframplatten haben einen silberweißen Glanz und eignen sich aufgrund ihrer Festigkeit und ihres niedrigen Ausdehnungskoeffizienten gut für Hochtemperaturanwendungen. Sie haben einen extrem hohen Schmelzpunkt und eine extrem hohe Härte, was eine Haltbarkeit in rauen Umgebungen gewährleistet. Wolframplatten verfügen außerdem über elektrische Leitfähigkeit und stabile chemische Eigenschaften, was sie zu einem wichtigen Bestandteil in Branchen wie Luft- und Raumfahrt, Elektronik und Fertigung macht. Diese Platten haben einen hohen Elastizitätsmodul und einen niedrigen Dampfdruck und spielen eine Schlüsselrolle bei Anwendungen, bei denen Präzision, Stabilität und Elastizität von entscheidender Bedeutung sind.
Um
Taizhou Huacheng Wolfram und Molybdän Manufacture Co., Ltd.
Taizhou Huacheng Wolfram und Molybdän Manufacture Co., Ltd.
Taizhou Huacheng Tungsten and Molybdenum Produkte Co., Ltd. ist ein professionelles Unternehmen, das Produkte der Wolfram- und Molybdänserie herstellt. Das Unternehmen ist auf die Herstellung von Sonderformteilen aus Wolfram und Molybdän, hochdichten Wolframlegierungen und Wolfram-Kupfer-Legierungen sowie auf die Forschung und Entwicklung neuer Wolfram-Molybdän-Materialien spezialisiert.
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Branchenkenntnisse
Gibt es spezielle Legierungsformulierungen oder Zusammensetzungen von Wolframplatten für maßgeschneiderte Anwendungen?
Es gibt spezielle Legierungsformulierungen oder -zusammensetzungen Wolframplatte verfügbar, um den Anforderungen verschiedener maßgeschneiderter Anwendungen gerecht zu werden. Wolframlegierungen werden oft durch die Kombination von Wolfram mit anderen Elementen hergestellt, um gewünschte Eigenschaften wie verbesserte Duktilität, Bearbeitbarkeit oder verbesserte Leistung in bestimmten Umgebungen zu erreichen. Zu den gebräuchlichsten Wolframlegierungen, die in Plattenform verwendet werden, gehören:
Schwere Wolframlegierungen (W-Ni-Fe oder W-Ni-Cu):
Zusammensetzung: Diese Legierungen bestehen typischerweise aus Wolfram in Kombination mit Nickel und Eisen (W-Ni-Fe) oder Wolfram mit Nickel und Kupfer (W-Ni-Cu).
Eigenschaften: Wolframschwerlegierungen haben eine hohe Dichte und gute mechanische Eigenschaften. Sie werden in Anwendungen wie Luft- und Raumfahrtkomponenten, Strahlenschutz und Gegengewichten eingesetzt.
Kupfer-Wolfram-Legierungen (Cu-W):
Zusammensetzung: Kupfer-Wolfram-Legierungen kombinieren Wolfram mit Kupfer, oft in unterschiedlichen Verhältnissen.
Eigenschaften: Diese Legierungen weisen ein Gleichgewicht zwischen der hohen elektrischen und thermischen Leitfähigkeit von Kupfer und der Härte und Verschleißfestigkeit von Wolfram auf. Sie werden in elektrischen Kontakten, Elektroden und verschiedenen Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt sowie im Militär eingesetzt.
Silber-Wolfram-Legierungen (Ag-W):
Zusammensetzung: Silber-Wolfram-Legierungen kombinieren Wolfram mit Silber.
Eigenschaften: Diese Legierungen bieten ein Gleichgewicht zwischen der elektrischen Leitfähigkeit von Silber und dem hohen Schmelzpunkt und der Haltbarkeit von Wolfram. Sie finden Anwendung in elektrischen Kontakten und Schaltern.
Molybdän-Wolfram-Legierungen (Mo-W):
Zusammensetzung: Molybdän-Wolfram-Legierungen kombinieren Wolfram mit Molybdän.
Eigenschaften: Diese Legierungen können im Vergleich zu reinem Wolfram eine verbesserte Hochtemperaturstabilität und mechanische Eigenschaften bieten. Sie werden in Anwendungen wie Hochtemperatur-Ofenkomponenten eingesetzt.
Lanthan-Wolfram-Legierungen (La-W):
Zusammensetzung: Lanthan-Wolfram-Legierungen kombinieren Wolfram mit Lanthan.
Eigenschaften: Diese Legierungen sind für ihre Hochtemperaturfestigkeit und Stabilität bekannt. Sie finden Anwendung in Umgebungen mit hohen Temperaturen, beispielsweise in der Luft- und Raumfahrt und im Verteidigungsbereich.
Seltenerd-Wolfram-Legierungen:
Zusammensetzung: Legierungen mit Seltenerdelementen und Wolfram.
Eigenschaften: Seltenerd-Wolfram-Legierungen können abhängig von der genauen Zusammensetzung spezifische Eigenschaften aufweisen, wie z. B. eine verbesserte Hochtemperaturfestigkeit oder eine erhöhte Korrosionsbeständigkeit. Sie können in verschiedenen Spezialanwendungen eingesetzt werden.
Tantal-Wolfram-Legierungen (Ta-W):
Zusammensetzung: Tantal-Wolfram-Legierungen kombinieren Wolfram mit Tantal.
Eigenschaften: Diese Legierungen können eine verbesserte Korrosionsbeständigkeit und Hochtemperaturstabilität bieten. Sie werden in Anwendungen eingesetzt, bei denen die Beständigkeit gegenüber aggressiven chemischen Umgebungen von entscheidender Bedeutung ist.
Nickel-Wolfram-Legierungen (Ni-W):
Zusammensetzung: Nickel-Wolfram-Legierungen kombinieren Wolfram mit Nickel.
Eigenschaften: Diese Legierungen bieten im Vergleich zu reinem Wolfram ausgewogene Eigenschaften wie verbesserte Duktilität und Zähigkeit. Sie können in verschiedenen industriellen und elektronischen Anwendungen eingesetzt werden.
Die Wahl einer spezifischen Wolframlegierung für eine maßgeschneiderte Anwendung hängt von der gewünschten Kombination von Eigenschaften ab, die für diese Anwendung erforderlich sind. Wenn beispielsweise ein Gleichgewicht zwischen hoher Dichte und mechanischer Festigkeit erforderlich ist, können schwere Wolframlegierungen gewählt werden.


Kann Wolframplatte als Zielmaterial für Dünnschichtabscheidungstechniken verwendet werden?
Wolframplatte kann als Zielmaterial für Dünnschichtabscheidungstechniken verwendet werden, insbesondere in einem Prozess, der als physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) bekannt ist. PVD-Methoden wie Sputtern werden üblicherweise zum Aufbringen dünner Filme aus verschiedenen Materialien auf Substrate eingesetzt. Wolfram wird häufig aufgrund seiner günstigen Eigenschaften als Targetmaterial ausgewählt, darunter hoher Schmelzpunkt, thermische Stabilität und Kompatibilität mit dem Sputterprozess. Hier sind einige wichtige Überlegungen:
Sputterprozess:
Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD): Sputtern ist eine PVD-Technik, bei der Ionen aus einem Plasma ein Zielmaterial bombardieren und dabei Atome oder Moleküle von der Zieloberfläche lösen. Diese abgelösten Partikel lagern sich dann als dünner Film auf einem in unmittelbarer Nähe platzierten Substrat ab.
Vorteile von Wolfram als Targetmaterial:
Hoher Schmelzpunkt: Wolfram hat einen sehr hohen Schmelzpunkt (ca. 3.422 °C oder 6.192 °F), wodurch es für Hochtemperatur-Abscheidungsprozesse geeignet ist.
Thermische Stabilität: Wolfram ist thermisch stabil und stellt sicher, dass es unter den Bedingungen des Sputterprozesses in einem festen Zustand bleibt.
Anwendungen:
Halbleiterindustrie: Durch Sputtern abgeschiedene dünne Wolframfilme werden in der Halbleiterindustrie häufig verwendet. Sie können für verschiedene Zwecke eingesetzt werden, einschließlich der Herstellung von Verbindungen und Metallschichten in integrierten Schaltkreisen.
Wolfram-Sputtertargets:
Target-Geometrie: Wolfram-Targets zum Sputtern sind in der Regel in verschiedenen Geometrien erhältlich, z. B. als planare oder rotierende Targets, abhängig von den spezifischen Anforderungen des Abscheidungssystems.
Reinheitsgrade: Hochreine Wolframtargets werden häufig bevorzugt, um Verunreinigungen in den abgeschiedenen Filmen zu minimieren und die gewünschten Eigenschaften des dünnen Films sicherzustellen.
Filmeigenschaften:
Haftung und Gleichmäßigkeit: Mit Wolfram-Sputtertargets abgeschiedene dünne Wolframfilme weisen eine gute Haftung auf Substraten und eine gleichmäßige Dicke über die beschichtete Oberfläche auf.
Filmstruktur: Der Sputterprozess ermöglicht die Kontrolle über die Mikrostruktur und die Eigenschaften des abgeschiedenen Wolframfilms.
Kompatibilität mit verschiedenen Substraten:
Substratmaterialien: Wolfram-Dünnfilme können auf verschiedenen Substratmaterialien abgeschieden werden, darunter Siliziumwafer, Glas und andere Materialien, die üblicherweise in der Elektronikindustrie verwendet werden.
Abscheidungssysteme:
Magnetronsputtern: Magnetronsputtern ist eine häufig verwendete Technik zur Abscheidung dünner Wolframfilme. Dabei werden Magnetfelder eingesetzt, um die Effizienz des Sputterprozesses zu steigern.
Spezifische Anwendungen:
Barriereschichten: Wolfram-Dünnfilme werden häufig als Barriereschichten in Halbleiterbauelementen verwendet, um die Diffusion von Materialien zwischen verschiedenen Schichten zu verhindern.
Verbindungen: Wolfram wird als Material für Metallverbindungen in Knotenpunkten der fortschrittlichen Halbleitertechnologie verwendet.
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